Highly Aligned Polymeric Nanowire Etch-Mask Lithography Enabling the Integration of Graphene Nanoribbon Transistors
페이지 정보
작성자 최고관리자
작성일 2021-03-26 11:11 댓글 0건 조회 198회
본문
Highly Aligned Polymeric Nanowire Etch-Mask Lithography Enabling the Integration of Graphene Nanoribbon Transistors. Wan Sik Hwang, Nanomaterials, 11(1), December, 2020
스마트드론에 탑재할 수 있는 초경량 전자기기에 활용할 수 있는 그래핀 나노리본의 효율적인 공간 배열 및 정렬 제어에 관한 연구
- 이전글Fast Constrained Dynamic Time Warping for Similarity Measure of Time Series Data 21.03.26
- 다음글2020 1차년도 스마트드론융합 교육연구단 연구성과 21.03.26
댓글목록
등록된 댓글이 없습니다.